三井化学、EUV露光用CNTペリクルの生産設備を岩国大竹工場に設置
2024/5/29 15:55
三井化学<4183.T>は28日、半導体の更なる微細化、生産性向上に不可欠な次世代の高NA、高出力EUV露光装置に対応したEUV露光用CNT(カーボンナノチューブ)ペリクルの生産設備を、岩国大竹工場(山口県和木町)に設置することを決定したと発表した。
ペリクルとは、半導体ウェハーに光を照射して回路パターンを描くフォトリソグラフィ工程で、各露光波長に対して耐光性のある膜材料を選択し、高い透過率を得られるように膜厚設計したフォトマスク用防塵カバー。新設備は25年12月の完工を予定し、生産能力は年間5000枚を計画する。
28日終値は、前日比118円安の4659円。
提供:ウエルスアドバイザー社
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